用于广播应用的Ampleon高压RF LDMOS技术

发布时间:2023-11-20 09:26:29     浏览:425

  介绍:

  射频功率放大器是个人通信系统(GSM, EDGE, W-CDMA, WiMAX)基站的关键部件。对于这些功率放大器,射频横向扩散MOS (LDMOS)晶体管由于其出色的功率能力,增益,效率,线性度,可靠性和低成本而成为标准选择。

  LDMOS晶体管也是广播应用中的器件选择,其中带宽,坚固性和热阻等附加要求很重要。在广播应用中,UHF (470- 860mhz)的带宽(BW)要求几乎是一个倍频程,比基站中的W-CDMA信号大10倍以上。此外,LDMOS晶体管的设计,除了10:1的驻波比外,还应具有承受大功率发射机突然失配的能力。由于要求低于0.4 K/W的高功率水平,晶体管和封装的热阻也非常关键。不断有更高的功率水平的需求,以减少晶体管板的空间到最小。为了开发具有成本效益的广播发射机,需要两倍的最先进功率(150w)才能使模拟放大器的直接2比1替换成为可能,而数字广播信号甚至需要更高的功率水平。

  最大功率受到低阻抗输出匹配级的限制,给再现性和可靠性带来了问题。解决方法是开发一种可以在更高电压下工作的装置。这增加了负载阻抗,使更可靠的电路设计成为可能,从而确保匹配元件的长寿命。

  本文介绍了40v LDMOS技术及其向50v技术的演进。这两种技术都具有非常宽的频带操作,非常好的坚固性和非常高的输出功率,适用于UHF广播应用。与最先进的32v LDMOS器件相比,这些高压器件(300- 500w)的功率增加了一倍以上。

  设备描述

  高压射频LDMOS技术是在基站射频LDMOS技术的基础上发展起来的。如图1所示,该技术在8英寸CMOS晶圆厂中进行处理,能够光刻至0.14 um,其中LDMOST工艺源自具有LOCOS隔离的C075 CMOS (0.35 um栅极)工艺。在C075工艺的基础上增加了基片源sink、CoSi2栅极硅化、钨屏蔽、蘑菇型漏极结构和厚2.8 μm的第四层AlCu金属化层。该器件的布局如图2所示。

image.pngimage.png

  它由许多(通常是50个)平行的手指组成,由漏极和栅极连接条连接。四个这样的模具组合在一个陶瓷推挽封装实现一个电源产品。特别开发的ESD器件对栅极进行保护。

  通过设计漏极延伸、外延层厚度和屏蔽结构,进一步将40 V和50 V的击穿电压分别提高到90 V和110 V,为高压工作开辟了道路。

  晶体管的导通电阻和击穿电压都经过优化设计。这种优化的成功可以从漏极延伸区域的电场分布非常平坦,栅极和漏极边缘只有非常弱的峰值来识别。该分布如图3所示。此外,由于这种工程场分布,晶体管的坚固性和可靠性也得到了根本改善。

image.png

  射频性能

  图4显示了0.86 GHz时高压LDMOS在42 V电源电压下的窄带连续波ab类射频性能。该器件的增益通常为21 dB,由串联栅极电阻限制,以实现低频的良好稳定性和易于调谐。功率水平为400w时的峰值效率为65%,而50v电源电压技术的峰值效率为500w(未示出)。

image.png

  在图5中,绘制了窄带测试夹具中音调间距为100 kHz的双音性能。三阶调制间积IMD3穿过-30 dBc,接近200 W的平均输出功率。相应的漏极效率为52%。

image.png

  广播行业正在大规模引进数字广播,广播公司和服务提供商迫切希望推进数字传输。这个数字DVB-T信号是一个OFDM调制信号,CCDF的0.01%概率为9.6 dB(包络方法)。在晶体管的输出端,线性化需要大约8 dB的CCDF - 0.01%。晶体管应能处理模拟和数字信号。DVB的设备性能如图6所示。该信号的肩距(距离中心频率为4.3 MHz)在平均输出功率下保持在-32 dBc以下。增益约为20 dB,效率为32%。对于50v技术,可以实现120w的输出功率和相同的效率。

image.png

  射频性能分析

  从LDMOS的串联和并联损耗机制可以分析实际测量的DVB效率,并将其与b类的理论最大效率进行比较。根据对小型设备的测量推断,高压技术在0.86 GHz时的最大效率约为75%。高压效率曲线与回关闭功率的关系如图10所示,我们看到这条曲线非常接近理论最大b类效率。测量到的30- 32%的DVB效率在8 dB回退时实现。在频率为0.86 GHz和电源电压为40-50 V时,由于导通电阻和输出电容,我们有并联和串联损耗的组合。根据它们的技术值,我们估计了ab类的损失,如图10中的蓝色曲线所示。广播应用的高压射频LDMOS技术实现的效率比从损耗机制理论估计的要高。这种差异可以归因于更高的谐波贡献,与截止频率相比,这在低频时变得重要。

image.png

  可靠性

  高压LDMOS工艺是根据Ampleon使用的标准程序合格的,符合行业标准。特别注意了热载流子的降解。热载流子降解是由高电场和高电流密度共同引起的。

  当晶体管偏置到静态状态时测量衰减,这是针对高压技术的,通常在电流为5 mA / mm栅极宽度和漏源电压为40-50 V的情况下。这种静态电流的退化可能导致器件性能的变化。高压器件的性能得到了改善,如图12所示。在同一图中,有一个广播晶体管的退化数据,从一个32伏的一代。尽管新电压晶体管的偏置条件较高,但它们几乎没有表现出任何退化。外推20年后,退化率仅为2%。

image.png

  热阻对300- 500w的器件来说非常重要。因此,利用ANSYS对其热阻进行了模拟。图13显示了一个模拟示例。利用该ANSYS工具对模具和封装的热阻进行了优化。这导致典型的测量值为0.35 K/W,结温低于160°C,允许可靠的操作。

  结论

  总之,我们展示了新的高压(40-50 V) RF LDMOS技术,该技术可以在高达1.0 GHz的频率下提供300-500 W的连续波功率和75-110 W的线性平均DVB功率。这些技术具有非常好的坚固性,一个八度的宽带操作,并且非常可靠。

相关品牌推荐Ampleon

推荐资讯

  • Connor-Winfield OX200-DK 12Vdc OCXO
    Connor-Winfield OX200-DK 12Vdc OCXO 2024-11-18 08:55:58

    OX200 - DK是12V直流驱动、CO - 8封装的烤箱补偿晶体振荡器。专为特定需求设计,特点有频率稳定性高(±5.0ppb)、温度范围宽、低功耗、低相位噪声和抖动且RoHS合规。电气参数包括供电电压范围、输出特性,还有多种频率稳定性相关参数。

  • Statek CX4HT高温低频石英晶体
    Statek CX4HT高温低频石英晶体 2024-01-08 09:00:53

    越来越多的应用需要使用高温晶体,比如工业、井下仪器、转轴传感器、地下钻孔工具等。对于这些应用,Statek提供CX1VHT/CX1HHT, CX4VHT和CX9VHT晶体。这些晶体被设计在高达200摄氏度的温度下工作,在这些温度下的预期寿命超过1000小时。CX1VHT和CX1HHT晶体提供的频率范围为10 kHz至600 kHz, CX4VHT晶体提供30 kHz至250 kHz, CX9VHT晶体提供32 kHz至160 kHz。

在线留言

在线留言